分離式光催化化學(xué)高壓反應(yīng)釜

  高壓光化學(xué)反應(yīng)釜又稱外照式光催化反應(yīng)器，是進(jìn)行光化學(xué)催化、合成、降解等反應(yīng)而設(shè)計(jì)的新型反應(yīng)釜，世紀(jì)森朗高壓光化學(xué)反應(yīng)釜的視窗采用藍(lán)寶石材質(zhì)，藍(lán)寶石（Sapphire）晶體具有透光性能好、高強(qiáng)度、高硬度、耐高溫、耐摩擦、耐腐蝕，電絕緣性能優(yōu)良等一系列優(yōu)良的理化特性。世紀(jì)森朗技術(shù)人員把Sapphire晶體用于高壓光化學(xué)反應(yīng)器中，通過對高壓反應(yīng)釜在光催化中的應(yīng)用，經(jīng)過技術(shù)研發(fā)的技術(shù)性能與的反應(yīng)設(shè)備，受到很多高壓光催化科研人員的關(guān)注。
  分離式光催化化學(xué)高壓反應(yīng)釜為釜頭移動式的桌面微型高壓反應(yīng)釜，控制系統(tǒng)與加熱系統(tǒng)獨(dú)立設(shè)計(jì)，釜頭非固定式，便于移動、整機(jī)一體化設(shè)計(jì)，結(jié)構(gòu)合理，功能完善，中文操作菜單、輕松使用，是實(shí)驗(yàn)室常規(guī)的高壓反應(yīng)設(shè)備。加熱方式為模塊電加熱，搭載MRSC-C 的高溫高壓控制系統(tǒng)，MUTICHEM多功能反應(yīng)釜的控制系統(tǒng)為立式的位于底座后側(cè)，杜絕了低沸點(diǎn)氣體蒸汽或氣體意外泄漏與電機(jī)電路發(fā)生危險(xiǎn)，反應(yīng)釜底座上集成釜蓋托架與釜體拆卸助力板。
高壓光化學(xué)反應(yīng)釜技術(shù)特點(diǎn)：
1. 有效容積：50--500ml，配備光源升降臺，可調(diào)節(jié)光照的方向與角度
2. 溫度：極限溫度200°C，壓力：10MPA 標(biāo)準(zhǔn)配置，
3. 反應(yīng)釜體、釜頭的材質(zhì)為不銹鋼316材質(zhì)；加工工藝：釜體、釜頭采用整體316材質(zhì)鍛件棒材切割工藝，保證釜頭、釜體無任何焊接點(diǎn)；視窗Sapphire晶體，可視直徑為20MM或40MM
4. 驅(qū)動方式：磁子攪拌，驅(qū)動電機(jī)無級調(diào)速，轉(zhuǎn)速0-1200轉(zhuǎn)/分鐘；
5. 密封方式：A型雙線密封，卡環(huán)快拆卸式密封結(jié)構(gòu)，非法蘭式密封方式，受壓均勻；
6. 釜蓋應(yīng)配有：a.指針壓力表和防爆膜；b.316材質(zhì)熱電偶套管和熱電偶，用于反應(yīng)溫度測定；c.液體采樣閥（氣體進(jìn)樣閥和探底管相連）用于進(jìn)氣、進(jìn)液和帶壓下取液體物料；d. 氣體釋放閥，用于排空反應(yīng)釜內(nèi)的氣體，釋放壓力；
7. 固定式模塊電加熱模塊，用于提高反應(yīng)釜的溫度；
8. MRSC-MUTICHEM控制系統(tǒng)：攪拌轉(zhuǎn)速控制和PID程序溫控器，雙向通訊電纜，實(shí)現(xiàn)溫度、轉(zhuǎn)數(shù)控制 ，工作時(shí)間，自整定校準(zhǔn)。a. 溫度數(shù)字顯示，并帶超高溫保護(hù)模塊；b.故障聲光報(bào)警模塊；c.轉(zhuǎn)數(shù)控制和數(shù)據(jù)顯示模塊；e．定時(shí)工作時(shí)間模式
分離式光催化化學(xué)高壓反應(yīng)釜技術(shù)參數(shù)：

分離式光催化化學(xué)高壓反應(yīng)釜中Sapphire晶體主要特點(diǎn)及應(yīng)用：
1. 耐磨、高硬度、耐腐蝕、摩擦系數(shù)小，是精密儀表機(jī)械軸承的理想材料； 　
2. 透光性能優(yōu)良，因此也是實(shí)驗(yàn)儀器材料；
3. 高強(qiáng)度、耐腐蝕、高熱導(dǎo)率、高熱導(dǎo)率、高透光特性及寬透光波段（從近紫外到7um中紅外波段），是理想的窗口材料和光學(xué)元件材料； 　　

4. 電絕緣性能優(yōu)良，六方對稱結(jié)構(gòu)，化學(xué)性能穩(wěn)定，是半導(dǎo)體、超導(dǎo)襯底材料（漏電容和寄生電容小）； 　

5. 藍(lán)寶石C面與Ⅲ-Ⅴ和Ⅱ-Ⅵ族沉積薄膜之間的晶格常數(shù)失配率小（與GaN之間失配最主要的外延基片材料。